Technologie de revêtement de la machine de revêtement sous vide optique

Les machines de revêtement optique sous vide sont largement utilisées dans l'industrie, telles que les caméras de téléphone portable, les étuis de téléphone portable, les écrans de téléphone portable, les filtres de couleur, les verres de lunettes, etc. La norme de précision est très élevée et divers revêtements peuvent être enduits, tels que AR film anti-reflet, art décoratif Les films plastiques, les films céramiques pour moteurs, les films réfléchissants améliorés, les films conducteurs ITO et les films anti-salissures représentent un pourcentage élevé des ventes sur le marché.

Quelle technologie de traitement la machine de revêtement optique sous vide utilise-t-elle pour recouvrir autant de couches ?

Lorsque la machine de revêtement sous vide optique se volatilise et s'accumule, les matières premières sources dans le système de vide sont chauffées ou les électrons négatifs du faisceau ionique se volatilisent. De la vapeur est soupçonnée d'être sur la surface optique. Pendant la période de volatilisation, selon la manipulation précise du chauffage, la pression de travail de la pompe à vide et le positionnement et la rotation précis du substrat, un revêtement optique uniforme avec une épaisseur spéciale peut être produit. La volatilisation a des caractéristiques relativement douces, ce qui rendra le revêtement de plus en plus lâche ou poreux. Ce type de revêtement lâche a la capacité d'absorber l'eau, ce qui modifie l'indice de réfraction raisonnable du film, ce qui entraînera des caractéristiques réduites. Les revêtements volatils peuvent être améliorés par la technologie de dépôt assisté par faisceau d'électrons, au cours de laquelle le faisceau d'électrons est dirigé vers la surface de la tranche. Cela améliore l'adsorption de la couche de surface optique relative du matériau source, ce qui entraîne une grande quantité de contraintes internes, ce qui favorise une densité plus élevée et une plus grande durabilité du revêtement.

Le champ électrostatique à haute énergie peut accélérer le faisceau d'électrons dans la pulvérisation par magnétron à faisceau d'électrons (IBS) de la coucheuse sous vide optique. Ces vitesses instantanées induisent une énergie mécanique importante dans les ions positifs. Lors de la collision avec le matériau source, le faisceau d'électrons « pulvérise » les molécules du matériau cible. Les ions positifs cibles pulvérisés par magnétron (les molécules sont converties en ions positifs par la zone d'hydrolyse) possèdent également une énergie mécanique, ce qui se traduit par un film étanche au contact de la surface optique. IBS est une technique précise et reproductible.

Coucheuse sous vide optique La pulvérisation magnétron plasma est un terme général désignant une série de technologies telles que la pulvérisation magnétron plasma haut de gamme et la pulvérisation magnétron. Peu importe de quel type de technologie il s'agit, cela inclut la création de plasma. Les ions positifs dans le plasma sont accélérés dans le matériau source, entrent en collision avec des ions positifs énergétiques lâches, puis pulvérisent le magnétron sur le composant optique cible global. Bien que différents types de pulvérisation magnétron plasma aient leurs caractéristiques, avantages et inconvénients uniques, nous pouvons combiner cette technologie ensemble, car ils ont le même principe, la différence entre eux, comparer ce type de technologie de revêtement et le papier Les autres techniques de revêtement couvertes dans sont beaucoup moins différents les uns des autres.

Contrairement au dépôt par volatilisation, le matériau source utilisé pour le dépôt de couche moléculaire (ALD) ne se volatilise pas à partir du liquide, mais existe immédiatement sous la forme d'une vapeur. Bien que le processus utilise une vapeur, des températures ambiantes élevées sont toujours nécessaires dans le système de vide. Dans l'ensemble du processus d'ALD, le précurseur de chromatographie en phase gazeuse est délivré selon l'impulsion unique non entrelacée, et l'impulsion unique est auto-contrainte. Ce type de traitement a un schéma de conception chimique unique, chaque impulsion unique n'adhère qu'à une seule couche et il n'y a aucune exigence particulière pour la géométrie de la couche de surface optique. Par conséquent, ce type de traitement nous permet de contrôler l'épaisseur et la conception du revêtement à un degré relativement élevé, mais il réduira la vitesse d'accumulation.